相關(guān)

 1. 液晶顯示器的結(jié)構(gòu)

一般地， TFT-LCD 由上基板組件、下基板組件、液晶、驅(qū)動(dòng)電路單元、背光燈模組和其他附件組成，其中：下基板組件主要包括下玻璃基板和 TFT 陣列，而上基板組件由上玻璃基板、偏振板及覆于上玻璃基板的膜結(jié)構(gòu)，液晶填充于上、下基板形成的空隙內(nèi)。

在下玻璃基板的內(nèi)側(cè)面上，布滿(mǎn)了一系列與顯示器像素點(diǎn)對(duì)應(yīng)的導(dǎo)電玻璃微板、 TFT 半導(dǎo)體開(kāi)關(guān)器件以及連接半導(dǎo)體開(kāi)關(guān)器件的縱橫線(xiàn)，它們均由光刻、刻蝕等微電子制造工藝形成，其中每一像素的 TFT 半導(dǎo)體器件的剖面結(jié)構(gòu)。

在上玻璃基板的內(nèi)側(cè)面上，敷有一層透明的導(dǎo)電玻璃板，一般為氧化銦錫（ Indium Tin Oxide, 簡(jiǎn)稱(chēng) ITO ）材料制成，它作為公共電極與下基板上的眾多導(dǎo)電微板形成一系列電場(chǎng)。若 LCD 為彩色，則在公共導(dǎo)電板與玻璃基板之間布滿(mǎn)了三基色（紅、綠、藍(lán)）濾光單元和黑點(diǎn)，其中黑點(diǎn)的作用是阻止光線(xiàn)從像素點(diǎn)之間的縫隙泄露，它由不透光材料制成，由于呈矩陣狀分布，故稱(chēng)黑點(diǎn)矩陣（ Black matrix ）。

2 液晶顯示器的制造工藝流程

彩色 TFT-LCD 制造工藝流程主要包含 4 個(gè)子流程： TFT 加工工藝（ TFT process ）、彩色濾光器加工工藝（ Color filter process ）、單元裝配工藝（ Cell process ）和模塊裝配工藝（ Module process ）。

 

2.1TFT 加工工藝（ TFT process ）

TFT 加工工藝的作用是在下玻璃基板上形成 TFT 和電極陣列。通常采用五掩膜工藝，即利用 5 塊掩膜，通過(guò) 5 道相同的圖形轉(zhuǎn)移工藝，完成如圖 1.3TFT 層狀結(jié)構(gòu)的加工。

                 

2.2 濾光板加工工藝        

(a) 玻璃基板            (b) 阻光器加工             (c) 濾光器加工           

(d) 濾光器加工           (e) 濾光器加工              (f) ITO 淀積

3.1 淀積工藝

應(yīng)用于液晶顯示器制造工藝的淀積（ Deposition ）方法主要有兩種：一種是離子增強(qiáng)型化學(xué)氣相淀積法，另一種是濺射淀積法。離子增強(qiáng)型化學(xué)氣相淀積的基本原理是：將玻璃基板至于真空腔室中，并且加熱至一定的溫度，隨后通入混合氣體，同時(shí) RF 電壓施加于腔室電極上，混合氣體轉(zhuǎn)變?yōu)殡x子狀態(tài)，于是在基體上形成一種金屬或化合物的固態(tài)薄膜或鍍層。濺射淀積法的基板原理是：在真空室中，利用荷能粒子轟擊靶，使其原子獲得足夠的能量而濺出進(jìn)入氣相，然后在工件表面淀積出與靶相同材料的薄膜。一般地，為不改變靶材的化學(xué)性質(zhì)，荷能粒子為氦離子和氬離子。濺射淀積法有直流濺射法、射頻濺射法等多種。

3.2 光刻工藝

光刻工藝（ Photolithography process ）是將掩膜上的圖形轉(zhuǎn)移至玻璃基板上的過(guò)程。由于 LCD 板上的刻線(xiàn)品質(zhì)取決于光刻工藝，因此它是 LCD 加工過(guò)程中最重要的工藝之一。光刻工藝對(duì)環(huán)境中的粉塵顆粒很敏感，因此它必須置于高度潔凈的室內(nèi)完成。

3.3 刻蝕工藝

刻蝕工藝分為濕法刻蝕工藝和干法刻蝕工藝，濕法刻蝕工藝用液體化學(xué)試劑以化學(xué)方式去除基板表面的材料，其優(yōu)點(diǎn)是用時(shí)短、成本低、操作簡(jiǎn)單。干法刻蝕工藝是用等離子體進(jìn)行薄膜線(xiàn)條腐蝕的一種工藝，按照反應(yīng)機(jī)理可分為等離子刻蝕、反應(yīng)離子刻蝕、磁增強(qiáng)反應(yīng)離子刻蝕和高密度等離子刻蝕等類(lèi)型，按結(jié)構(gòu)形式又可分為筒型、平行平板型。干法刻蝕工藝的優(yōu)點(diǎn)是橫向腐蝕小，控制精度高，大面積刻蝕均勻性好，利用 ICP 技術(shù)還可以刻蝕垂直度和光潔度都非常好的鏡面，因此，干法腐蝕在制作微米及深亞微米，納米級(jí)的幾何圖形加工方面 , 有很明顯的優(yōu)勢(shì)。

4 液晶顯示器制造工藝的發(fā)展趨勢(shì)

4.1TFT-LCD 的發(fā)展趨勢(shì)

由于玻璃底板的大小對(duì)生產(chǎn)線(xiàn)所能加工的 LCD 最大尺寸，以及加工的難度起決定作用，所以 LCD 業(yè)界根據(jù)生產(chǎn)線(xiàn)所能加工的玻璃底板的最大尺寸來(lái)劃分生產(chǎn)線(xiàn)屬于哪一代，例如 5 代線(xiàn)最高階段的底板尺寸是 1200X1300mm ，最多能切割 6 片 27 英寸寬屏 LCD-TV 用基板； 6 代線(xiàn)底板尺寸為 1500X1800mm ，切割 32 英寸基板可以切割 8 片， 37 英寸可以切割 6 片。 7 代線(xiàn)的底板尺寸是 1800X2100mm ，切割 42 英寸基板可以切割 8 片， 46 英寸可以切割 6 片。圖 4.1 給出了 1 ～ 7 代的玻璃底板尺寸界定情況。目前，全球范圍已經(jīng)進(jìn)入第 6 代和第 7 代產(chǎn)品生產(chǎn)的階段，預(yù)計(jì)在未來(lái)兩年里，第 5 代及第 5 代之前的生產(chǎn)能力的增加幅度將逐漸減小，而第 6 代和第 7 代的生產(chǎn)能力在近兩年將形成加快增長(zhǎng)的態(tài)勢(shì)。目前，各大設(shè)備廠商也紛紛推出了能夠與第 6 代以上生產(chǎn)線(xiàn)配套的設(shè)備，如尼康公司的面向第 6 代、第 7 代和第 8 代生產(chǎn)線(xiàn)應(yīng)用的步進(jìn)投影式平板顯示器光刻機(jī) FX-63S ， FX-71S 和 FX-81S 。

 

生產(chǎn)過(guò)程簡(jiǎn)述

在液晶顯示器的生產(chǎn)過(guò)程中要多次涉及到清洗工藝，如所使用的玻璃基板在受入前必須清洗干凈，在濺鍍 ITO 導(dǎo)電膜之前還需要清洗干凈；除此之外，在涂敷光刻膠等之前都要對(duì)玻璃基板進(jìn)行清洗，將 1 微米以上的顆粒以及所有的無(wú)機(jī)、有機(jī)污染物清洗干凈，保證工藝達(dá)到所需要的精度要求。

清洗液過(guò)濾以去除清洗過(guò)程中引入的雜質(zhì)，達(dá)到清洗循環(huán)利用或排放標(biāo)準(zhǔn)；玻璃基板上的污染物，主要來(lái)自制造工藝過(guò)程以及玻璃基板的搬運(yùn)、包裝、運(yùn)輸、儲(chǔ)存過(guò)程，主要的污染物有塵埃粒子、纖維紙屑、礦物油和油脂等油垢、氧化硅等無(wú)機(jī)顆粒、制備加工過(guò)程的殘留物、水跡、手指印等。

主要清洗工藝

濕法

    刷洗

    高壓噴淋

    浸泡式超聲波清洗

    流水式高頻超聲波清洗

    藥液噴淋

    二流體清洗

    超高壓微細(xì)粒子噴射清洗技術(shù)

    功能水清洗技術(shù)   

干法

    紫外線(xiàn)照射清洗 (UV 清洗 )

    等離子體清洗

問(wèn)題描述

    清洗液中的污染物對(duì)玻璃基板性能造成不良影響

    影響加工過(guò)程中玻璃基板表面與使用的各種材料之間的親和力

    傷害玻璃基板松軟膜層

產(chǎn)品應(yīng)用

高純水、超純水、去離子水的終端過(guò)濾

    PES 膜濾芯

 

工藝用水處理，或作為高純水及多種模式過(guò)濾的前過(guò)濾

    PP 膜濾芯

相關(guān)資料：

CC-Link 總線(xiàn)技術(shù)在液晶屏清洗系統(tǒng)中的應(yīng)用；

Fenton 光催化氧化法處理液晶顯示屏清洗廢水；

液晶面板清洗水分質(zhì)處理及高標(biāo)準(zhǔn)回用；

相關(guān)產(chǎn)品：

精密濾芯過(guò)濾器

技術(shù)支持：

如何選擇過(guò)濾設(shè)備 —工況調(diào)查表

常見(jiàn)流體的粘度；

常見(jiàn)顆粒物的大小及設(shè)備選型參考；

常見(jiàn)流體化學(xué)適應(yīng)性表；

選擇過(guò)濾精度時(shí)微米和目數(shù)的關(guān)系；

常見(jiàn)管道尺寸對(duì)照表；

如何挑選合適的過(guò)濾袋 - 過(guò)濾芯 ；

過(guò)濾機(jī)理和形式 ；

過(guò)濾行業(yè)中的常用術(shù)語(yǔ) ；

過(guò)濾行業(yè)常見(jiàn)的單位換算 ；

過(guò)濾的種類(lèi)及模式 ；

過(guò)濾行業(yè)中的一些名詞定義 ；

常見(jiàn)顆粒物粒徑大小 ；

常用壓濾機(jī)濾布分類(lèi) ；

過(guò)濾機(jī)理 ；

幾種過(guò)濾方法能耗分析 ；

幾種金屬顆粒和化合物粒徑分布 ；

顆粒尺寸和對(duì)應(yīng)的過(guò)濾分離方式 ;