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奕卿半導(dǎo)體超純氣體過(guò)濾處理

日期:2020/11/21瀏覽:1500次

在半導(dǎo)體工業(yè)生產(chǎn)中 幾乎各個(gè)工序都會(huì)用到超純氣體 , 器件的質(zhì)量與超純氣體的純凈度密切相關(guān)。

99.99% 的氣體 , 是一種高純化學(xué)試劑。為適應(yīng)一些科學(xué)研究和尖端技術(shù)的特殊需要而制備。一些對(duì)氣體要求特別純凈的部門,需要超純氣體的純度高達(dá) 99.9999% 以上 , 每升氣體中粒度大于 0.5 μ m 的塵粒數(shù)應(yīng)小于三個(gè)。

超純氣體的制備大多是從工業(yè)氣體加以純化,有吸附法、吸收法、薄膜擴(kuò)散法、電解法、生化法、輻射法、光解法、低溫精餾法、催化法等。例如超純氫、氮、氦、氬,先通過(guò)空氣分離提取較純氣體,再經(jīng)低溫吸附得到超純氣體 ; 粗氬也可以從合成氨弛放氣中提取 ; 粗氪、氙從核裂變氣中提取,再經(jīng)純化而得超純氣體。

半導(dǎo)體工業(yè)用的超純氣體有氫、氧、氮、氬、氦、氨、二氧化銨、四氧化碳各類氣體氫化物及二元或三元以上的混合氣等,它們大部分 是從空氣、天然氣、石油化工和合成氨廠的殘余氣體中提取后進(jìn)一步精制得到,根據(jù)原料氣來(lái)源情況、雜質(zhì)組份含量、純度要求來(lái)選擇相應(yīng)的制備方法。集成電路發(fā) 展到兆位級(jí)后,對(duì)超凈提出了更嚴(yán)格要求,在超純氣體或電子氣體供氣系統(tǒng)中,為了脫除由于振動(dòng)或氣流沖擊所造成的脫落粒子,在使用氣前須安裝過(guò)濾器。

半導(dǎo)體元件因其高集成化,制作芯片上的電子電路的最小加工線寬度變得更微細(xì), 16k 位電路線寬、線路間距為 4~7 微米,而 256k 位電路為 0.8~1.5 微 米;這種微細(xì)的加工允許的微粒子的最小粒徑是加工尺寸的 1/5~1/10 ,故對(duì)于 64k 位隨機(jī)存取記憶,存在 0.3 微米的粒子會(huì)成為問(wèn)題,對(duì)于 256k~1M 位隨機(jī)存取記憶,某一段存在 0.1 微米的粒子就會(huì)成為問(wèn)題。在半導(dǎo)體工業(yè)生產(chǎn)中 , 幾乎各道工序都用到超純氣體 , 元件的質(zhì)量與超純氣體的純凈度密切相關(guān)。

相關(guān)產(chǎn)品:

精密過(guò)濾器

相關(guān)資料:

HCl 電子氣體超純純化技術(shù)研究;

半導(dǎo)體超凈廠房純氣系統(tǒng)及實(shí)例 ;

半導(dǎo)體工業(yè)用超純氣體 ——電子純液氧、液氮 ;

超純電子混合氣體及標(biāo)準(zhǔn)氣體的配制技術(shù)探究

國(guó)外半導(dǎo)體工業(yè)用超純氣體 ;

半導(dǎo)體制造用高純電子氣體新品種的現(xiàn)狀;

半導(dǎo)體工藝中超高純氣的穩(wěn)定供應(yīng)技術(shù) ;

技術(shù)支持:

如何選擇過(guò)濾設(shè)備 —工況調(diào)查表

常見(jiàn)流體的粘度;

常見(jiàn)顆粒物的大小及設(shè)備選型參考;

常見(jiàn)流體化學(xué)適應(yīng)性表;

選擇過(guò)濾精度時(shí)微米和目數(shù)的關(guān)系;

常見(jiàn)管道尺寸對(duì)照表;

如何挑選合適的過(guò)濾袋 - 過(guò)濾芯 ;

過(guò)濾機(jī)理和形式

過(guò)濾行業(yè)中的常用術(shù)語(yǔ) ;

過(guò)濾行業(yè)常見(jiàn)的單位換算 ;

過(guò)濾的種類及模式 ;

過(guò)濾行業(yè)中的一些名詞定義 ;

常見(jiàn)顆粒物粒徑大小 ;

常用壓濾機(jī)濾布分類

過(guò)濾機(jī)理 ;

幾種過(guò)濾方法能耗分析

幾種金屬顆粒和化合物粒徑分布 ;

顆粒尺寸和對(duì)應(yīng)的過(guò)濾分離方式 ;

 

 

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